シリコンステンシルマスク
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シリコンステンシルマスクとは
シリコンステンシルマスクは、パターンを形成するためにナノスケールの貫通開口を加工した電子ビームリソグラフィ(EBリソグラフィ:Electron Beam Lithography)用のフォトマスクです。EBリソグラフィーは、先端のマスクを作製するための技術として、半導体業界で研究が進められています。
トッパンフォトマスクは微細加工技術をコア技術としてステンシルマスクの開発を進め、供給体制を構築しています。
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特徴
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電子線描画機とステンシルマスク
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部分拡大図
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