ナノインプリント用モールド

ナノインプリントには大きく分類すると「UV方式」と「熱方式」の2種類があります。
■ UVナノインプリント方式モールド
上のパターンをUV硬化性樹脂に押し付け、紫外光を照射し樹脂を硬化させることでパターンを複製する方式です。常温での作業が可能なため、パターンの再現制度が高いという特徴があります。

■ 熱ナノインプリント方式モールド
上のパターンを熱可塑性樹脂に強い圧力で押し付け、加熱後冷却することでパターンを複製する方式です。加熱により軟化する材料であれば、さまざまなものに対し直接加工することが可能です。

■ 石英モールド
主にUVナノインプリント方式で使用されるモールドです。半導体用フォトマスクと同じ石英材料を使用するので、剛性と平坦性が高いのが特徴です。半導体用フォトマスク製造プロセスを用いるため、数十ナノメートルレベルの高精細パターンが可能です。また多段構造体を有するモールドも開発、製造しています。基板サイズ:6025(152×152×6.35mm(t))

■ シリコンモールド
主に熱ナノインプリント方式で使用されるモールドです。シリコン基材上に塗布された感光性樹脂に電子ビームでパターンを描画し、ドライエッチング法により深堀りします。石英モールド作製工程に順じたプロセスを用いるため、高精細パターンの作製を可能としています。またアスペクト比の高いパターンを有したシリコンモールドを開発中です。

トッパンフォトマスクは、お客さまのニーズに対応したモールドを提供しており、豊富な実績を誇ります。また、3D構造パターンの開発など、研究・開発にも注力しています。ご希望のパターン形状など、お気軽にご相談ください。