硅模板掩模/用於納米壓印的模具

硅模板掩模(Silicon stencil mask)

【電子束復刻機與模板掩模】

硅模板掩模(Silicon stencil mask)是為了形成圖案而加工了納米級貫通開口的電子束光刻(EB光刻:Electron Beam Lithography)用光掩模。
EB光刻技術作為取代以往光刻工藝的技術,在半導體行業開展研究。
凸版印刷將微細加工技術作為核心技術推進模板掩模的開發,創建供貨體制。

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  • 局部放大圖

用於納米壓印的模具

納米壓印光刻

納米壓印是一種微細加工技術,採用被稱為模具的模板與基板夾住樹脂並使其固化,可復刻數十納米單位的圖案。由於工序簡便,因此作為廉價、再現性良好地大量製造微細結構體的技術受到期待。
凸版應用透過半導體用光掩模事業積累的光刻技術,開發、製造高精度的納米壓印用模具。

壓印方式

納米壓印大致分為“UV方式”和“熱方式”兩種。

UV納米壓印方式

這種方式將模具上的圖案按壓在UV固化性樹脂上,然後照射紫外線使樹脂固化複製圖案。由於可在常溫下作業,因此具有圖案再現精度高的特點。

熱納米壓印方式

這種方式在強壓力下將模具上的圖案按壓在熱塑性樹脂上,然後加熱及冷卻複製圖案。如果是受熱軟化的材料,可以對各種產品直接加工。

模具的種類

石英模具

主要用於UV納米壓印方式的模具。因為使用與半導體用光掩模相同的石英材料,所以剛性和平坦性高是其特點。
因為採用了半導體用光掩模製造工藝,所以可實現數十納米程度的高精細圖案。另外,凸版還開發、製造具有多段結構體的模具。

  • 高精細圖案示例
  • 多段結構圖案示例

硅模具

主要用於熱納米壓印方式的模具。用電子束在硅基材上塗布的感光性樹脂上描繪圖案,然後採用乾蝕刻法下挖。
因為採用了基於石英模具製作工序的工藝,因此可以製作高精細圖案。另外,凸版正在開發具有較高長寬比圖案的硅模具。

  • 硅模具
  • 高長寬比圖案示例

納米壓印的總體解決方案服務

凸版提供從光學設計、模擬到主模具製作、最終產品量產化的納米壓印的總體解決方案服務。

納米壓印用於評估的硅模具

本公司備有用於評估的標準模具,能夠以較為低廉的價格提供樣品。
請運用於研發以及試製用途。

規格概要

    • 芯片尺寸   : □ 1英寸
    • 圖案區域   : □ 18mm
    • 基板(硅)厚度:725um

標準模具樣品系列

圖案規格 線寬及間隔 孔洞
設計值 間距 200nm 400nm 1000nm 300nm 400nm 400nm
寬度 100nm 200nm 500nm 150nm 200nm 200nm
測量值 頂部寬度 110nm 220nm 510nm 195nm 240nm 141nm
底部寬度 140nm 240nm 540nm 164nm 210nm 178nm
高度 250nm 270nm 270nm 260nm 220nm 230nm

模具圖案的斷面照片