各种用途的光掩模

9″Photomask Image

3D光掩模(灰阶光掩模)

除了运用超微细加工技术的半导体器件用途外,凸版印刷还面向各种工业用途、研究开发用途等,销售高精细、高可靠性光掩模。

用途

FC-BGA封装基板用光掩模

【FC-BGA封装基板用光掩模】

满足工业用途、研究开发用途等各种领域的光掩模的需求。

〈供货实例〉

  • MEMS用掩模
  • IC(凸块)用掩模
  • 半导体封装用掩模
  • 微透镜阵列用掩模
  • LED用掩模
  • 热敏打印头用掩模
  • 装置精度控制用掩模
  • 测试图
  • 高精细印刷用原版
  • 各种研究开发用掩模
  • 欢迎洽询上述以外的用途。

主要规格

■掩模尺寸 127.0mm(5英寸)平方、152.4mm(6英寸)平方
  • 其他尺寸请联系我们
■接受的数据格式 除了GDS数据、GBR数据外,还可以接受提供图纸
■基材等 合成石英、钠钙玻璃 板厚:0.09~0.25英寸(t)
可应对薄膜

交货的流程

交货的流程
〈交货工期〉

数据确定后,3~7天发送。

〈掩模回收〉

对于用过的掩模,按照客户的要求回收。

凸版印刷测试图

在高纯度的玻璃基板上用铬形成基本形状图案的光掩模。可提供正版型及负版型。
用于装置的精度控制、分辨率检查以及选择光致抗蚀剂时的评价基准等用途。

凸版印刷测试图

标准图案

No.1 No.2

除了上述标准型号外,也可以制作配置客户要求图案的定制型号。

3D光掩模(灰阶光掩模)

运用半导体器件用光掩模的高精细、高可靠性技术的3D光掩模((Gray-tone Masks / Gray-scale Masks)。
通过控制透过光量,可形成微透镜等3维结构。

  • 3D光掩模(灰阶光掩模)

  • 微透镜Prolith图像

    微透镜Prolith图像

  • 3D光掩模的实际复刻例(光致抗蚀剂的AFM图像)

    3D光掩模的实际复刻例
    (光致抗蚀剂的AFM图像)

圖形形狀例

光掩模圖案
光掩模圖案
光致抗蝕劑形狀(AFM)
光致抗蝕劑形狀(AFM)